科技日报:中科院国产22纳米光刻机治不了咱们的

发布时间: 2018-12-03

11月29日,中科院研制的“超分辩光刻装备”通过验收。新闻传着传着,就成了谣言——《国产光刻机宏大冲破,国产芯片白菜化在即》《攻破荷兰技术关闭,弯道超车》《厉害了我的国,新式光刻机将打破“芯片荒”》……

总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就仿佛说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

先说明下:光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可能用光刻——就像照相,图像投在感光底片上,蚀掉一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大范畴集成电路——芯片。

十多少年前,国际上开端对名义等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究,是较早出成果的一个团队。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者阐明:拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震撼,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。

笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,还算熟悉,无奈苟同一些漫无边际的瞎扯。

标签 光刻机 光刻 芯片 弯道 辨别率

这种“科技报道”是满足虚荣心的伪新闻。行家听了眉头一紧,避之大吉。也难怪良多迷信家怕上消息。

但这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才华刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻多少十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少以当初的技能不能。

为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极其。线条细到一定程度,投影就含糊了。要明白投影,线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。

各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩。但后来网媒添枝加叶,搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、赚钱,最爱制作“自嗨文”跟“吓尿体”。听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。

验收会上也有记者问:该光刻设备能不能刻芯片,攻破国外垄断?光电所专家回答说,用于芯片需要攻克一系列技巧艰苦,距离还很遥远。

(原标题:国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病!)

中科院研制的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意思是用便宜光源实现较高的辩白率,用于一些特殊制造场景,很经济。

但牢固的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元公民币。恳求工作环境严苛,配合的光学跟机械部件又极其精致,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,发现了“一台卖一亿美金”的神话。